GM2000化妝品粉底液高剪切膠體磨

產(chǎn)品型號：

所屬分類：高剪切膠體磨

更新時間：2025-10-26

簡要描述：GM2000化妝品粉底液高剪切膠體磨，采用了二級處理結(jié)構(gòu)，*級采用了高剪切膠體磨的磨頭模塊，第二級采用了高剪切分散乳化機的分散乳化模塊，第二級模塊可根據(jù)客戶對物料的處理要求開配定轉(zhuǎn)子，定轉(zhuǎn)子可配2P、2G、4M、6F、8SF，且定轉(zhuǎn)子精密度都達(dá)到了先進(jìn)水平。

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 GM2000化妝品粉底液高剪切膠體磨使用皮帶輪按照1：3的比例變速，轉(zhuǎn)速可達(dá)9000rpm，通過變頻調(diào)節(jié)后轉(zhuǎn)速zui高可達(dá)14000rpm，是普通國產(chǎn)膠體磨轉(zhuǎn)速的3-4倍，立式分體式結(jié)構(gòu)，運行平穩(wěn)，符合衛(wèi)生級標(biāo)準(zhǔn)。

GM2000化妝品粉底液高剪切膠體磨采用了二級處理結(jié)構(gòu)，*級采用了高剪切膠體磨的磨頭模塊，第二季采用了高剪切分散乳化機的分散乳化模塊，第二級模塊可根據(jù)客戶對物料的處理要求開配定轉(zhuǎn)子，定轉(zhuǎn)子可配2P、2G、4M、6F、8SF，且定轉(zhuǎn)子精密度都達(dá)到了先進(jìn)水平。保證粉底液在達(dá)到研磨細(xì)度的基礎(chǔ)上，達(dá)到顆粒粒徑分布范圍小，乳液穩(wěn)定性高的效果。

原理：

    粉底液膠體磨在電動機的高速轉(zhuǎn)動下物料從進(jìn)口處直接進(jìn)入高剪切破碎區(qū)，通過一種特殊粉碎裝置，將流體中的一些大粉團(tuán)、粘塊、團(tuán)塊等大小顆粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎 區(qū)，在十分狹窄的工作過道內(nèi)由于轉(zhuǎn)子刀片與定子刀片相對高速切割從而產(chǎn)生強烈摩擦及研磨破碎等。在機械運動和離心力的作用下，將已粉碎細(xì)化的物料重新壓入精磨區(qū)進(jìn)行研磨破碎。精磨區(qū)分三級，越向外延伸一級磨片精度越高，齒距越小，線速度越長，物料越磨越細(xì)，同時流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一級流體的方 向速度瞬間發(fā)生變化，并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切、強烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等，在經(jīng)過三個精磨區(qū)的上千萬次的高速剪切、研磨粉碎之后，從而產(chǎn) 生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達(dá)到分散、粉碎、乳化、均質(zhì)、細(xì)化的目的。

粉底液膠體磨的結(jié)構(gòu)：

    粉底液膠體磨是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

    *級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

的特點：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨2、定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

 粉底液膠體磨  GMD2000系列設(shè)備選型表

處理量取決于物料的粘度，稠度和zui終產(chǎn)品的要求。1.表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

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